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蒸发镀膜

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

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真空抽不上去的原因

1、漏率偏高就是我们通常所说的漏气;.

2、真空机组的抽气能力不够了，油被污染或氧化了:

3、真空室内太脏放气;

4、真空室内有漏水;

5、真空管道有漏气;.

6、或者是以上几种可能都有。

出现问题首先是要判断，是不是拆卸过东西，是不是漏水?阀门打开了吗?根据现象判断原因，然后再去根据判断找问题，可能会收到事半功倍的效果。

养成良好的卫生习惯

相比以前我们厂的设备是灰尘满面、油渍不堪。也许很多人都认为，设备只要正常运转就可以了，搞得再干净也是做表面工作。我可是这样认为的，一个人连表面工作都作不来，那真的还有内在、实在的工作吗?当然设备和设备周围的灰尘、油污对设备的本身的影响也是相当之大的。而对于空间红外辐射，普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外，但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。灰尘能产生静电，损坏电子元件;油污能使电线、水管硬化开裂，造成一些意想不到的问题出现。特别我们使

用的真空设备，还有它本身的特殊性。真空设备讲究的是-一个真空清洁度，真空清洁度越差，放气性就越大。这样使设备抽到较高的真空度所需的时间就越长。

或者根本就无法抽到。这样一来就减少我们的产量，二来影响到了我们的产品的质量。

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真空镀膜机的真空室设计方法

真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或者化学方法，使物体表面获取所需膜体，真空镀膜技术根据其采用方法的不同科分成蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积以及分子束外延等，这次分析的镀膜设备采用的是磁控溅射镀膜。

真空室是真空设备的一个主要组成部位，真空镀膜设备真空室设计主要考虑的就是密封性和可靠性，结构必须要合理，真空设备的材料生产都是在真空室内进行的，材料对真空度的影响要小，设计不能马虎，要注意一些问题。

使用磁控溅射的真空镀膜机一般采用的是圆筒主体结构，结构上要保证快速抽空，因气袋会缓慢的放气，因此要避免出现隔离孔穴，真空系统上端会加装磁控溅射枪，为了使真空室和元件有足够的强度，保证在外部和内部的作用力下不产生形状的变化，厚度需要足够。

焊接是真空室制造中的一道关键工序，保证焊接之后的真空室不会产生漏气现象，须合理设计焊接结构，提高焊接质量，处在超高真空的内壁粗糙度要抛光使室外室内表面很光洁，须特别注意的是需做好防止生锈的措施。